TEM用纯硅薄膜窗
产品名称： TEM用纯硅薄膜窗
英文名称： pure silicon support films for TEM
产品编号： 003
产品价格： 0
产品产地： 美国
品牌商标： risun
更新时间： null
使用范围： null
上海昭沅仪器设备有限公司
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TEM用纯Si薄膜窗口
纯硅薄膜窗特点
纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰；
清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；
均匀性：减少了不同区域的不均匀性；
稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous)；
减少污染：彩色污染仅为C膜的一半；
纳米孔：为纳米尺寸材料提供稳定的成像，无背景干扰；
Si成分：溅镀沉积、纯的Si；
最小的背景信号：可对含Ni或C样品进行元素分析；
纯硅薄膜窗规格
单窗口系列
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窗口类型
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薄膜厚度
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窗口尺寸
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框架尺寸
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框架厚度
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5nm
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25x25µm
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Φ3mm
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100µm
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30nm
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500x500µm
纳米孔10-60nm
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Φ3mm
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100µm
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多窗口系列
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窗口类型 |
薄膜厚度 |
窗口尺寸 |
框架尺寸 |
框架厚度 |
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5nm |
2x1阵列，50X1500µm |
Φ |
100µm |
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9nm /15nm |
2x1阵列，100X1500µm |
Φ |
100µm |
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5nm |
2x1阵列，100X100µm |
Φ |
200µm |
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9nm /15nm |
2x1阵列，100X1500µm |
Φ |
200µm |
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5nm |
3x3阵列，8个窗口50X50µm，1个窗口50X100µm |
Φ |
100µm |
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5nm /9nm |
3x3阵列，8个窗口100X100µm，1个窗口100X350µm |
Φ |
100µm |
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9nm |
3x3阵列，8个窗口100X100µm，1个窗口100X350µm |
Φ |
200µm |
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15nm |
3x3阵列，8个窗口100X100µm，1个窗口100X350µm |
Φ |
100µm |
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30nm |
3x3阵列，8个窗口100X100µm，1个窗口100X350µm；纳米孔10-60nm |
Φ |
100µm |
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15nm |
3x3阵列，窗口100X100µm |
Φ |
200µm |
